半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
内容背静
该厂家坐落在山东省南京市,主耍经营高半导体材料治疗器的打包封装试验,日废气排放物废供水量约200吨。在产生过程中 中操作多个物理中和剂,工业废水物质繁杂,带有高含量铜、镍等巨资属以其环氧聚氨酯聚氨酯、光刻胶等设计影响物。厂家原始治疗场地设施不可能需要满足最新的废气排放物的标准,亟需上升升级改造。
污水物质及由来
主轴电镀废液
:源头于处理芯片引脚电镀工艺加工过程,内含铜、镍、锡等巨资属正离子,pH值冲击大。
无机废污水
:重要来源芯片封装胶凝固后、光刻流程,所含环氧漆硅胶粘合剂、异丙醇、二甲苯等生产容剂。
腐蚀性生活污水
:行成于晶圆拆洗和蚀刻工艺流程,包含氢氧化物钠、硫酸钠、氢氧化物钠等。
治理 方法环节
预外理第一阶段
酸碱平衡与
:用加量平台调高pH至6-9,以免前因后果处理设备腐蚀不锈钢。
沥青混凝土结晶
:添加PAC(整合氯化铝)和PAM(聚丙烯塑料酰胺),清掉浮悬物和部件高价属。
价值体系外理的阶段
高层硫化
:主要采用Fenton制剂(H₂O₂+Fe²⁺)化解难光降解无机物,COD彻底清除率达70%之上。
膜滤水
:超滤膜(UF)+ro反渗透性(RO)组装生产工艺,进三步公款私存巨资属和融解性巧妙物。
进一步除理关键时期
阴离子对调
:也可以而对铜、镍正离子,确保安全留水巨资属浓度底于0.5mg/L。
活性氧炭吸附性
:成为终极有保障,剔除残存微量分析有机质物。
以后作用
经治理 后,出液水质量到达《电子器材轻工业水污染源物排放的标准的标准》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,回收利用率完善至60%,历年节电清水投入约80百万元。